N-甲基吡咯烷酮

簡要描述：本產(chǎn)品專為半導體、鋰電池、顯示面板等制造業(yè)設計的高純度電子化學品。通過獨特的單次過濾純化工藝，能將工業(yè)級（G3）NMP 原液提純至準 G5（半導體級）水平，有效去除金屬顆粒、離子殘留及微小顆粒物，滿足對潔凈度有苛刻要求的精密工藝應用。

產(chǎn)品詳情

核心性能優(yōu)勢

1. 超高金屬純度：關鍵金屬雜質(zhì)含量降至 ppt 級別，滿足半導體工藝對金屬污染物的極限要求。

2. 優(yōu)異的顆?？刂?/span>：過濾后，≥0.5μm 的顆粒物數(shù)量降至個位數(shù)水平，遠優(yōu)于原液狀態(tài)。

3. 穩(wěn)定的水分控制：水分含量穩(wěn)定在約 180ppm，與原液保持一致，避免因吸水引入額外風險。

4. 高效的純化工藝：通過單次過濾即可實現(xiàn)從 G3 到準 G5 的能級躍升，工藝簡潔高效。

主要應用領域

• 半導體制造：用于光刻膠剝離、晶圓清洗等工序。

• 鋰電池行業(yè)：作為負極材料（如 SBR 粘結劑）的高純度溶劑，用于電極漿料制備。

• 顯示面板：用于聚酰亞胺（PI）漿料的稀釋和涂布。

• 其他精密電子：任何要求超低金屬雜質(zhì)和顆粒污染的制造領域。

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